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成膜グレードシラン化合物（Deposition Grade Silanes）

ゾル-ゲル法がセラミックおよびガラス膜の生成に有利な理由はいくつかあります1- 4。その一つは、特殊な材料、触媒、または高価な成膜装置を必要としない単純な製法であることです。さらに、ゾル-ゲル反応は極端な反応条件を必要とせず、この方法で調製される材料の特性は、有機的に修飾されたさまざまな前駆体を利用することで容易に調整することが可能です2,3。

弊社の成膜グレード（Deposition Grade）シラン化合物には、ゾル-ゲル法で一般的に使用されるアルコキシシランとその前駆体であるクロロシランがあります。反応過程におけるアルコキシシランの転換は、図1の概略図のように、一連の連続した加水分解、縮合、および熱処理段階を経て進行します。

ゾルゲル法を用いた製膜法の概略
図1 ゾルゲル法を用いた製膜法の概略

成膜グレードシラン化合物の用途には、次のようなものがあります。

弊社成膜グレードシラン化合物はNMRやGC、GC-MSなどで純度測定を行い、さらに微量不純物金属量も測定しております。各製品の試験成績書をご参考ください。

成膜グレードシラン化合物一覧
製品番号 製品名 構造式
679267 Allytrimethoxysilane 679267構造式
679224 Butyltrichlorosilane 679224構造式
679356 [3-(Diethylamino)propyl]trimethoxysilane 679356構造式
679216 Ethyltrichlorosilane 679216構造式
679364 Isobutyl(trimethoxy)silane 679364構造式
679208 Methyltrichlorosilane 679208構造式
679321 n -Propyltriethoxysilane 679321構造式
679194 Pentyltrichlorosilane 679194構造式
679259 Tetramethyl orthosilicate 679259構造式
679240 Tetrapropyl orthosilicate 679240構造式
679305 Triethoxy(octyl)silane 679305構造式
679291 Triethoxyphenylsilane 679291構造式
679275 Triethoxyvinylsilane 679275構造式
679232 Trimethoxymethylsilane 679232構造式
679313 Trimethoxyphenylsilane 679313構造式

References

  1. S.K.Young, Material Matters 2006, 1(3), 8.
  2. F. Caruso, Colloids and Colloid Assemblies: Synthesis, Modification, Organization, and Utilization of Colloid Particles, 2004, John Wiley & Sons, New York.
  3. Sol-Gel Technology for Thin Films, Fibers, Preforms, Electronics, and Specialty Shapes, L.C. Klein, Ed., 1988, Noyes Publ., Park Ridge, NJ.
  4. A.C.Pierre, Introduction to Sol-Gel Processing, 2002 Kulwer, Academic Publishers, Boston, Dodrecht, London.
  5. A. B. Wojcik, L. C. Klein, J. Sol-Gel Science and Technology 1995, 4, 57.

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